产品中心
Back
射频PECVD：低压条件下，在13.56 MHz射频电流作用下产生高活性等离子体，从而实现材料生长、材料表界面改性的一种先进材料制备技术。
射频PECVD：低压条件下，在13.56 MHz射频电流作用下产生高活性等离子体，从而实现材料生长、材料表界面改性的一种先进材料制备技术。
五大子系统组成：气路控制系统、等离子体发生和控制系统、加热系统、真空系统、保护罩。
Thank you for your submission. We will contact you within 24 hours
